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SUN-2100N系列耐酸腐蚀光刻胶

SUN-2100N适用于功率器件制造过程中保护铝等金属基底。功率器件制造过程中需要腐蚀铝等金属薄层,传统工艺中使用二甲苯光刻胶。这类光刻胶不仅有毒性,而且在使用过程中产生大量有机废液。石油醚闪点为-20 °C,被用做显影液,存在燃爆风险。浓硝酸通常被用来剥离KTFR,是一个安全隐患。SUN-2100N由beat365中国在线体育自主创新发明,完全无毒,可以有效保护铝等金属基底。SUN-2100N使用标准TMAH(2.38%)显影,纯水定影,既环保又安全。有机溶剂取代浓硝酸剥离光刻胶。

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